| 品牌：依肯/IKN | 型号：CMSD2000 | 工作方式：研磨机 |
| 类型：湿磨机 |
原料药9000转湿磨机，原料药10000转研磨机，原料药12000转粉碎机，API原料药14000转研磨分散机，API原料药高剪切胶体磨，API原料药管线式胶体磨，原料药湿法粉碎机
原料药9000转湿磨机，原料药10000转研磨机，原料药12000转粉碎机，API原料药14000转研磨分散机，IKN原料药湿磨机、湿法粉碎机、研磨机比普通胶体磨研磨细化能力更强,转速为14000rpm,是它们的4-5倍;另外,IKN还有一款改进型的胶体磨,在胶体磨的基础上加入了一组分散盘,有利于药剂的进一步分散细化和均质。
原料药是指用于生产各类制剂的原料***,是制剂中的有效成份由化学合成、植物提取或者生物技术所制备的各种用来作为药用的粉末、结晶、浸膏等,但病人无法直接服用的物质。
原料药的药效的发挥,一般取决于原料药粒径的细化,粒径越小,药效释放的更***。原料药一般都会分散到水中或者溶剂当中(如卡波姆溶液),制得***混悬液,最终得到医药成品。
医药混悬液最终的体系很大程度上由原料药的粒径细化,以及原料药的分散情况决定的。粒径细化更小,分散更均匀,制得的医药混悬液才会更加稳定并且药效更高。
目前,许多药厂一般都采用胶体磨进行处理,一般采用3000rpm国产胶体磨,但是效果并不理想。而上海依肯高剪切胶体磨就不一样的,更高的转速,更精密的磨头结构,使得研磨的效果大大好于国产胶体磨。另外IKN又自主研发了改进型的胶体磨,将高剪切胶体磨和高剪切分散机进行结合,一体化设备,进一步提高胶体磨的研磨能力,以及强化胶体磨的分散能力。
原料药胶体磨CMSD2000系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CMSD2000在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。
IKN医药级胶体磨胶体磨结构:三道磨碎区:一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。我们的磨头的结构:沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们可以***物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。
医药级胶体磨CMSD2000系列的特点:
1、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
2、齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
3、沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
医药湿磨机、湿法粉碎机、研磨机、胶体磨CMSD2000系列设备选型表
医药湿磨机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
注:流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同事流量可以被调节到允许量的10%
原料药9000转湿磨机，原料药10000转研磨机，原料药12000转粉碎机，API原料药14000转研磨分散机，API原料药高剪切胶体磨，API原料药管线式胶体磨，原料药湿法粉碎机
